Konstantin Ladutenko 6 years ago
parent
commit
c24e2f1e22
1 changed files with 15 additions and 17 deletions
  1. 15 17
      main.tex

+ 15 - 17
main.tex

@@ -181,10 +181,10 @@ $^f$ Université Bourgogne Franche-Comté
 порядка увеличивает квантовый выход процесса рождения фотонов и
 плазмонов. В работе [Bert Kecht] экспериментально продемонстрировано
 усиление электролюминесценции планарной металлической структуры, в
-туннельной контакт которой введена сферическая Au наноантенна.
+туннельный контакт которой введена сферическая Au наноантенна.
 
-Как известно, морфологические особенности металлических пленок (такие
-как шероховатость или размер зерна), являющихся одним из берегов
+Как известно, морфологические особенности металлических пленок (такие, как
+шероховатость или размер зерна), являющихся одним из берегов
 туннельного контакта, также могут иметь антенные эффекты и влиять на
 интенсивность эмиссии фотонов. В данной работе мы исследуем влияние
 свойств поверхности золотых пленок на эффективность излучения фотонов
@@ -218,7 +218,7 @@ $^f$ Université Bourgogne Franche-Comté
 Стеклянные подложки толщиной 150~мкм, также покрывались тонким слоем
 золота с толщиной в диапазоне (15-50)~нм с подслоем хрома.  Важно, что
 при напылении варьировались технологические параметры процесса,
-влияющие на мофрологические особенности формируемых пленок.
+влияющие на морфологические особенности формируемых пленок.
 
 \begin{figure}[t]\centering
 	\includegraphics[width=0.95\linewidth]{ExpSetup.eps}
@@ -303,7 +303,7 @@ NA=0.95). Для регистрации излучения использова
 туннельного тока была постоянной. По характеру работы СТМ с ОС на
 воздухе при высоких напряжениях смещения, можно выделить три режима
 работы СТМ~\cite{rogez2016mechanism}: режим "стабильного тока", "не
-стабильного тока", при котором наблюдается редкие всплески туннельного
+стабильного тока", при котором наблюдаются редкие всплески туннельного
 тока, и режим "насыщения", в котором ОС возбуждена. В последнем
 режиме, сканер быстро подводит образец к зонду, возникает большой
 туннельный ток, и ОС сразу же разрывает контакт. Таким образом,
@@ -335,8 +335,7 @@ NA=0.95). Для регистрации излучения использова
 отражается при прохождении через образец. Для определения оптических
 \KL{и геометрических} параметров исследуемых образцов были измерены
 спектры оптического пропускания (рис.~\ref{risTransmission}).
-\KL{Серые зашумлённые линии соответствуют экспериментальным данным,
-  поверх них наложены более гладкие черные линии, полученные в расчёте
+\KL{Серые зашумлённые линии соответствуют экспериментальным данным, поверх них наложены более гладкие черные линии, полученные в расчёте
   методом матриц переноса (a правда им?). В этом расчёте для каждого
   образца использовалось два подгоночных параметра: толщины подслоя
   хрома и слоя золота, значения материальных параметров были взяты из
@@ -385,14 +384,14 @@ NA=0.95). Для регистрации излучения использова
 $A$. При уменьшении аспектного отношения зерна интенсивность излучения
 от пленок золота увеличивается драматическим образом.
 
-Предельным случаем поверхности со стремящимся к 0 параметром
+Предельным случаем поверхности со стремящимся к нулю параметром
 $Z_{grain}$ является монокристаллическое золото. Мы исследовали
 интенсивность излучения туннельного контакта от пленки
 монокристаллического золота толщиной 150 нм.  \KL{В таблице указана
   толщина в 300нм} \KL{\sout{Понятно, что в}В} данном случае сбор
 фотонов через подложку крайне затруднен\KL{, \sout{. В соответствии с
     данным фактом была введена модификация экспериментальной схемы, в
-    которой} поэтому} сбор фотонов из под острия СТМ был организован
+    которой} поэтому} сбор фотонов из-под острия СТМ был организован
 через боковой длиннофокусный объектив, установленный под углом
 25$^\circ$ к плоскости подложки. Для прямого сравнения полученных
 экспериментальных данных интенсивность излучения от
@@ -482,15 +481,15 @@ planarly layered media," J. Opt. Soc. Am. A 33, 698-706
 зазора. Это связано с тем, что в каждом методе существуют ограничения,
 которые при дальнейшем уменьшении расстояния между диполем и
 поверхностью делают расчёт чрезвычайно трудоёмким с вычислительной
-точки зрения. Для метода FDTD в использованном программном обеспечение
+точки зрения. Для метода FDTD в использованном программном обеспечении
 отсутствует возможность использования симметрии вращения, поэтому
 пришлось использовать трёхмерную модель. В свою очередь, увеличение
 числа разбиений расчётной сетки $n$ приводит к тому, что объём
 используемой компьютерной памяти растёт как $n^3$. В силу критерия
 Куранта шага по времени необходимо уменьшать пропорционально шагу
-дискретизаци в пространстве. В результате, общее время выполнения
+дискретизации в пространстве. В результате, общее время выполнения
 расчёта растёт как $n^4$. Это и ограничивает возможность использования
-сеток с мелким шагом, необходимым чтобы разрешить меньшие зазоры между
+сеток с мелким шагом, необходимым, чтобы разрешить меньшие зазоры между
 диполем и поверхностью.
 
 В методе T-матриц вначале выполняется разложение поля диполя по
@@ -501,8 +500,7 @@ planarly layered media," J. Opt. Soc. Am. A 33, 698-706
 диполем и поверхностью уменьшается, то требуется увеличивать число
 слагаемых в сумме для достижения сходимости, т.е. когда результат
 перестаёт зависеть от числа слагаемых. Однако большее число меньших
-слагаемых приводит к накоплению ошибок округления при выполнении
-арифметических операций компьютером и финальный результат перестаёт
+слагаемых приводит к накоплению ошибок округления при выполнении арифметических операций компьютером, и финальный результат перестаёт
 быть устойчивым к малым изменениям входных параметров.  Таким образом,
 для получения устойчивых результатов зазор между диполем и
 поверхностью в методе Т-матриц должен быть достаточно большим.
@@ -516,7 +514,7 @@ planarly layered media," J. Opt. Soc. Am. A 33, 698-706
 
 Для сопоставления с экспериментальными данными учитывался сбор
 излучения диполя в конечную апертуру объектива. Интересно отметить,
-что близкие результаты были получены не смотря на то, что в методе
+что близкие результаты были получены несмотря на то, что в методе
 FDTD расчёт потока энергии вёлся в ближнем поле интегрированием по
 части плоскости, перекрывающей заданную апертуру, а в методе Т-матриц
 интегрирование велось по углу в дальнем поле.
@@ -548,8 +546,8 @@ FDTD расчёт потока энергии вёлся в ближнем по
 влияние свойств поверхности для тонких не кристаллических пленок. Как
 известно, зерна золота имеют свои локализованные плазмонные резонансы
 [правильная ссыль], при которых наблюдается усиление электромагнитного
-излучения на границах зерен (hot spots). В виду наличия слоя золота и
-бианизатрапии подложки hot spots в основном локализованы в области
+излучения на границах зерен (hot spots). Ввиду наличия слоя золота и
+бианизотропии подложки hot spots в основном локализованы в области
 золотой пленки, а не в воздухе, что приводит к существенному
 поглощению энергии, связанному с оптическими потерями золота и
 Джоулевым нагревом. Понятно, что чем меньше диаметр зерен, тем больше