Konstantin Ladutenko 6 years ago
parent
commit
f0627a729b
1 changed files with 10 additions and 10 deletions
  1. 10 10
      main.tex

+ 10 - 10
main.tex

@@ -459,11 +459,11 @@ SC$^a$  & - & 300 &$\rightarrow\!\infty$ & $\rightarrow\! 0$& $\rightarrow \! \i
 света из туннельного контакта эквивалентна излучению точечного диполя,
 расположенного в середине туннельного зазора~[ссылка Андрей?]. Более
 того, диполь ориентирован по нормали к поверхности образца, а это
-значит что он не излучает энергию строго вниз. Тем не менее в
+значит, что он не излучает энергию строго вниз. Тем не менее в
 эксперименте с нижним расположением объектива (Рис.~\ref{rissetup})
 было зафиксировано оптическое излучение вызванное приложением
-напряжения к туннельному контакту. Каким образом излучение попало в
-этот объектив?
+напряжения к туннельному контакту. Возникает вопрос, каким образом
+излучение попало в этот объектив?
 
 Для моделирования излучения диполя вблизи поверхности независимо были
 использованы два метода. Это метод конечных разностей во временной
@@ -490,11 +490,11 @@ planarly layered media," J. Opt. Soc. Am. A 33, 698-706
 Куранта шага по времени необходимо уменьшать пропорционально шагу
 дискретизаци в пространстве. В результате, общее время выполнения
 расчёта растёт как $n^4$. Это и ограничивает возможность использования
-сеток с достаточно мелким шагом, чтобы хорошо разрешить меньшие зазоры
-между диполем и поверхностью.
+сеток с мелким шагом, необходимым чтобы разрешить меньшие зазоры между
+диполем и поверхностью.
 
 В методе T-матриц вначале выполняется разложение поля диполя по
-плоским волнам. Далее выполняется расчёт взаимодействия каждой такой
+плоским волнам. Далее выполняется расчёт взаимодействия каждой плоской
 волны со слоистой структурой. Финальный результат определяется
 интегрированием по всем направлениям. В компьютерной программе
 интеграл разложения заменяется на конечную сумму. Когда зазор между
@@ -508,11 +508,11 @@ planarly layered media," J. Opt. Soc. Am. A 33, 698-706
 поверхностью в методе Т-матриц должен быть достаточно большим.
 
 С другой стороны выбранный зазор в 10 нм уже достаточно мал, чтобы
-провести сравнительный анализ между разными образцами с учётом
-сильного ближнепольного взаимодействия диполя и металлических слоёв. В
+провести сравнительный анализ между образцами с учётом сильного
+ближнепольного взаимодействия диполя и металлических слоёв. В
 частности фактор Парсела для длины волны 500~нм оказался больше 100
-при расчёте обоими методами. Для коротких длин волн основная доля
-энергии диполя поглощалась в металлических слоях.
+при расчёте обоими методами. При этом для коротких длин волн основная
+доля энергии диполя поглощалась в металлических слоях.
 
 Для сопоставления с экспериментальными данными учитывался сбор
 излучения диполя в конечную апертуру объектива. Интересно отметить,