|
@@ -147,7 +147,14 @@ Quantum yield of the photon emission in the discussed process is sufficiently lo
|
|
|
|
|
|
\section{Experimental setup and studied samples}
|
|
\section{Experimental setup and studied samples}
|
|
|
|
|
|
-In this work, a tunnel gap was realized in a simple system of STM probe and a thin Au film deposited on a glass substrate. The probe was fabricated of a 150~mkm tungsten wire with electrochemical etching in KOH solution followed with thermal evaporation of a $\sim$30~nm thick Au layer with Cr adhesive underlayer on the probe tip. The tip characteristic radius of about 100~nm was controlled with scanning electron microscopy (SEM).
|
|
|
|
|
|
+В этой работе туннельный контакт был реализован в простейшей системе -- между зондом
|
|
|
|
+СТМ и тонкой золотой пленкой, нанесенной на поверхность стеклянной
|
|
|
|
+подложки. Зонд изготавливался из вольфрамовой проволоки диаметром
|
|
|
|
+150~мкм методом электрохимического травления в растворе гидроксида
|
|
|
|
+калия, после чего на него термически напылялся слой золота толщиной
|
|
|
|
+$\sim$30~нм c подслоем хрома для улучшения адгезии. Радиус закругления вершины зонда
|
|
|
|
+контролировался методом сканирующей электронной микроскопии (СЭМ), и составлял около 100~нм.
|
|
|
|
+
|
|
Стеклянные подложки толщиной 150~мкм также покрывались тонкими слоями
|
|
Стеклянные подложки толщиной 150~мкм также покрывались тонкими слоями
|
|
золота с толщинами в диапазоне (15-50)~нм с подслоем хрома. Важно, что
|
|
золота с толщинами в диапазоне (15-50)~нм с подслоем хрома. Важно, что
|
|
при напылении варьировались технологические параметры процесса,
|
|
при напылении варьировались технологические параметры процесса,
|